美国限制我国芯片技术发展的手段总体上分为两种，一是设计，二是制造。在制造方面美国主要禁止了使用美国技术的芯片代工厂为我国部分企业生产7nm及以下工艺的芯片，部分企业的14nm芯片生产也受到限制。而在CPU设计方面，美国则有更加丰富的限制手段，比如CPU指令集授权、IP授权、专利壁垒、EDA工具等等，国内部分企业和机构已经被禁止使用美国的EDA工具软件。
EDA工具软件可大致可分为芯片设计辅助软件、可编程芯片辅助设计软件、系统设计辅助软件等三类。国产的EDA工具软件由于起步较晚，技术积累和资金投入不足等原因，一直落后于国际水平，但近几年随着对这类基础软件的投入加大，技术人员也在危机感、使命感的驱动下加班加点研究，使国产的EDA软件与世界先进水平正在迅速拉近。
华大九天的EDA设计工具
4月25日，第四届数字中国建设峰会开幕，在“国有企业数字化转型论坛”上，中国电子华大九天凭借多年的EDA技术积累，同时结合人工智能技术，最新发布华大九天EDA工具系统V2021.3版本。该版本突破了数十项关键技术，优化了数百个复杂算法，产品的功能、性能、容量及可靠性等方面都得到了极大的提升。该版本是模拟设计全流程及数字设计验证EDA工具，整体可以支持28nm工艺制程，但是尚不支持28nm数字电路的设计。部分工具可以支持14nm和7nm工艺制程。
也就是说对于28nm的工艺制程的模拟芯片设计，我国已经有了全套的设计工具。假以时日，当国产EDA工具能够支持28nm及更新工艺的数字芯片设计时，那么就可以用国产的EDA工具完成CPU设计，美国也就不能再施加限制。在软件方面，只要有足够的投入，进步速度肯定比光刻机这类对精密制造严重依赖的硬件设备更快，有理由相信能够支持现代CPU设计的国产EDA软件不会让我们等待很长的时间。
华大九天自主研发的模拟/数模混合设计全流程EDA工具系统，成为全球四大模拟EDA全流程系统之一，其中电路仿真工具达国际先进水平，被国外权威媒体评为“全球最佳电路仿真工具”。中国电子将依托EDA工具系统的持续升级换代，为我国集成电路产业的健康发展起到重要的支撑和保障作用。
